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島津 EPMA-8050G 電子探針顯微分析儀

聯(lián)系人: 陳經(jīng)理
手機(jī): 18934727310
座機(jī): 0771-5330368 / 5307368
QQ: 3001673956 / 3001664790 / 3001645900 / 3001641208
網(wǎng)站: www.yr16888.com
地址: 中國(guó)(廣西)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)南寧片區(qū)云英路8號(hào)五象總部大廈B座6樓
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產(chǎn)品介紹

     

電子探針顯微分析儀(Electron Probe Microanalyzer)


廣西科學(xué)儀器

“The Grand EPMA” 誕生


搭載發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng) 


從SEM觀察條件到1μA量級(jí),在各種束流條件下都擁有空間分辨率的發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)。結(jié)合島津傳統(tǒng)的高性能X射線譜儀。

當(dāng)之無(wú)愧的“The Grand EPMA” ,高水準(zhǔn)的EPMA誕生!


 

超高分辨率面分析


對(duì)碳膜上Sn球放大3萬(wàn)倍進(jìn)行面分析。即使是SE圖像(左側(cè))上直徑只有50nm左右的Sn顆粒,在X射線圖像(右側(cè))上也是清晰可見(jiàn)。


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技術(shù)實(shí)現(xiàn)


空間分辨率
EPMA可達(dá)到的二次電子圖像分辨率3nm(加速電壓30kV)分析條件下N.1的二次電子分辨率。
(加速電壓10kV時(shí)20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA)

二次電子圖像高分辨率3nm
碳噴鍍金顆粒的觀察實(shí)例。實(shí)現(xiàn)高分辨率
3nm(@30kV)。


廣西科學(xué)儀器


大束流超高靈敏度分析
實(shí)現(xiàn)3.0μA(加速電壓30kV)的大束流。
全束流范圍無(wú)需更換物鏡光闌。

多可同時(shí)搭載5通道高性能4英寸X射線譜儀
無(wú)人可及的52.5°X射線取出角。
4英寸羅蘭圓半徑兼顧高靈敏度與高分辨率。
多可同時(shí)搭載5通道相同規(guī)格的X射線譜儀。

全部分析操作簡(jiǎn)單易懂
全部操作僅靠一個(gè)鼠標(biāo)就可進(jìn)行的可操作性。
追求「易懂」的人性化用戶界面。
搭載導(dǎo)航模式,自動(dòng)指引直至生成報(bào)告。


超高靈敏度面分析


使用1μA束流對(duì)不銹鋼進(jìn)行5000倍的面分析。捕捉到了Cr含量輕微不同形成的不同的相(左側(cè)),同時(shí)也成功地將含量不足0.1%的Mn分布呈現(xiàn)在我們眼前(右側(cè))。


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實(shí)現(xiàn)微區(qū)超高靈敏度分析的技術(shù)

廣西科學(xué)儀器

1 高亮度肖特基發(fā)射體
場(chǎng)發(fā)射電子槍采用的肖特基發(fā)射體比一般傳統(tǒng)SEM使用的發(fā)射體針尖直徑更大,輸出更高。即可以保持其高亮度,還可提供高靈敏度分析不可缺少的穩(wěn)定大電流。


2  EPMA專用電子光學(xué)系統(tǒng)
電子光學(xué)系統(tǒng),聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側(cè),交叉點(diǎn)不是靠聚光透鏡形成,而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上,具有獨(dú)立構(gòu)成與控制方式的可變光闌透鏡來(lái)形成 交叉點(diǎn)的(日本專利:第4595778號(hào))。簡(jiǎn)單的透鏡結(jié)構(gòu),既能獲得大束流,同時(shí)全部電流條件下設(shè)定合適的打開(kāi)角度,將電子束壓縮到細(xì)。當(dāng)然是不需要更換物鏡光闌的。


3 超高真空排氣系統(tǒng)
電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔(orifice)間隔方式的2級(jí)差動(dòng)排氣系統(tǒng)。中間室與分析腔體間的氣流孔做到小,以控制流入中間室的氣體,使電子槍室保持著超高真空,確保發(fā)射體穩(wěn)定工作。


4 高靈敏度X射線譜儀 

多可同時(shí)搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號(hào)的空間分辨率的同時(shí),又可減小樣品對(duì)X射線的吸收,實(shí)現(xiàn)高靈敏度的分析。

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